Out For Tender › Suiza › Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas)
Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System
- Órgano de contratación
- ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
- País
- Suiza
- Categoría
- Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas)
- Fecha límite
- Cierra el 10 Nov 2026 (10 Nov 2026 23:58 UTC+1)
- Publicada
- 2 Oct 2026
- Procedimiento
- Open
- Código CPV
- 38000000
Leer el anuncio oficial y licitar → La presentación de ofertas se realiza siempre en el portal del órgano de contratación, nunca aquí.
Qué solicita el órgano de contratación
The B & R Nanotechnology Center (BRNC) at ETH Zurich invites tenders for the purchase of one (1) ultra-high resolution electron-beam lithography (EBL) system. The system will be used for a variety of research activities of internal and external users, ranging from the generation of high-precision structures at the nanometer level to the rapid exposure of complex structures over large areas. The scope includes delivery, installation, training and acceptance of the system.
Idioma de este anuncio: English. El título y la descripción se muestran tal como los publicó el órgano de contratación.
Source: TED · reference 679334-2026 · JSON