Out For Tender › Suisse › Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes)
Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System
- Acheteur
- ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
- Pays
- Suisse
- Catégorie
- Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes)
- Date limite
- Clôture le 10 Nov 2026 (10 Nov 2026 23:58 UTC+1)
- Publié le
- 2 Oct 2026
- Procédure
- Open
- Code CPV
- 38000000
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Ce que l'acheteur demande
The B & R Nanotechnology Center (BRNC) at ETH Zurich invites tenders for the purchase of one (1) ultra-high resolution electron-beam lithography (EBL) system. The system will be used for a variety of research activities of internal and external users, ranging from the generation of high-precision structures at the nanometer level to the rapid exposure of complex structures over large areas. The scope includes delivery, installation, training and acceptance of the system.
Langue de cet avis : English. Le titre et la description sont affichés tels que publiés par l'acheteur.
Source: TED · reference 679334-2026 · JSON